中国的EUV技术"在2004年的ASML类似阶段"分析师声称——北京半导体工业仍然远远落后于西方对手。

中国的EUV技术在2004年的ASML类似阶段分析师声称——北京半导体工业仍然远远落后于西方对手。

技术工业

制造业

半导体

以

安东·希洛夫

2026年9月2日 （中文（简体） ).

浸入式DUV平面扫描仪在哪里？

当你通过我们网站的链接购买，我们可能会得到一个附属委员会。情况如下：

（图像信用：ASML)

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中国生产平面文字工具的能力与2004年某个时候的市场领袖ASML相当，一位拥有UBS的分析师在给客户的照会中写道。未来两五年，中国公司开始大量生产浸润式DUV平面图系统，中国芯片制造公司开始部署用于生产实际芯片，这种情况可能会有变化。然而，中国的半导体工业仍将远远落后于西方工业。“他们似乎与2004年的ASML处于相类似的阶段”,

用 TH Premium 更深：切片

（图像信用：tsmc)

• 分析TSMC的fab扩展路线图——多fab N2坡道，CoWOS,SoIC,并解开瓶颈。
• TSMC、英特尔和三星的前沿铸造路线图
• ASML 的芯片绘制工具路线图
• 中国芯片制作工具路线图

（原文共 32 张图片，此处展示前 3 张，更多图片请前往原文查看）

（编译自 Toms Hardware；原文